お知らせ：台湾における「特許要件の審査基準」の改訂について

08/13/2010

---

　現行特許法とともに2004年7月1日に施行された「特許要件の審査基準」は、台湾の知的財産局（日本の特許庁に相当）により、そのうちの一箇所が修正され、2009年7月30日に公布、即日施行されました。

当該修正は、引例中の図面の開示内容が直接に引用できるか否かにつき、さらに明確に規定するもので、具体的には、同審査基準第2.2.2節「引例」の最終段落における「…引例に図面が含まれている場合、文字説明がないのであれば、図面に明確に開示されている技術特徴のみが引例の一部に属し、図面から推測される内容、例えば、図面を直接に測って得た長さは引例の一部に属さない。」との記載が「…引例に図面が含まれている場合、当該図面は説明図と認められ、文字説明がないのであれば、図面に明確に開示されている技術特徴のみが引例の開示する内容に属し、又は角度、比率の関係及び各素子の関連位置など、拡大･縮小コピーにより差異が生じないものも参考とすることができる。また、図面から推測される内容、例えば、厚さを測定するなど、図面を直接に測って得た寸法については、拡大･縮小コピーは誤差が生じやすいため、直接に引用すべきではない。（下線当所）」に修正されました。これにより、引例中の図面の開示内容に対する判断基準がより明確になったと思われます。

このたび、当所では、上記修正に合わせて、以前ご送付した「特許要件審査基準」の日本語訳を修正し、これを機に、改訂後の当該審査基準の日本語訳全文を改めてご送付させていただくことにいたしました。ご参考としていただければ幸甚に存じます。（改訂後の当該基準の中国語原文へのリンクは、こちら）

ご質問、お気づきの点、ご要望などがございましたら、お気軽に林（chlin@leeandli.com）までお問い合わせください。