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立法院三讀通過產業創新條例第10條之2修正案（台版晶片法案）
近年來由於國際貿易爭端頻繁與地緣政治風險升高，造成主要國家開始考慮產業鏈重組問題。為達成相對應之政策目標，各國政府均開始針對各類前瞻技術與尖端科技產業設計優惠政策。以半導體產業為例，不論是美國的《晶片與科學法案(CHIPS and Science Act)》或歐盟的《歐洲晶片法案(European Chips Act)》，均希望透過各種類型的補貼（包含設立基金、提供低利貸款或租稅抵免等）吸引具有競爭力之產業參與者於美國或歐盟進行投資，以於美國及歐盟地區建立完善且具有競爭優勢之半導體產業聚落。
作為全球半導體重鎮，台灣立法院於2023年1月7日三讀通過《產業創新條例》第10條之2修正案（下稱「產創條例修正案」），以提供租稅抵減之方式，提供符合資格之產業參與者來台投資之誘因。依同條例第72條，產創條例修正案施行期間，自2023年1月1日起至2029年12月31日止。
上述產創條例修正案設計之租稅優惠類型有二：(1)「前瞻創新研究發展支出」之定率（25%）投資抵減，及(2)購置用於「先進製程」之機器設備支出之定率（5%）投資抵減。本文先將欲申請適用此二類租稅優惠之法定要件以表格方式整理如下，再分別說明法定要件內容。
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要件類型
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要件內容
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一、積極要件
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(一)須為「公司」
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(二)須於「中華民國境內」進行技術創新
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(三)須具有「國際供應鏈關鍵地位」
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(四)於同一課稅年度內之「研究發展費用」及「研究發展費用占營業收入淨額之比率」須達到一定規模
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(五)投資之「項目」需符合定義
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(六)於申請抵減課稅年度之「有效稅率」須達法定下限
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二、消極要件
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(一)禁止申請同類投資抵減優惠
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(二)抵減總額不得超過法定上限
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(三)三年內無違反環境保護、勞工或食品安全衛生相關法律且情節重大情事
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一、法定要件中之積極要件
(一) 須為「公司」：與產業創新條例第10條與第10條之1之規定不同，目前本次產創條例修正案之投資扣抵僅限「公司組織」申請，有限合夥事業等非公司組織並不具備申請資格。
(二) 須於「中華民國境內」進行技術創新：「中華民國境內」之定義須待主管機關於授權子法中明訂。
倘若一總部位於台灣之跨國企業欲申請本次產創條例修正案之投資抵減優惠，然而其技術創新行為係由該企業位於美國與台灣之研發中心共同進行，則該技術創新行為是否完全不適用本次產創條例修正案之投資抵減優惠？或是得依合理比率（例：個別研發中心之貢獻率）分攤於中華民國境內與境外之投資支出，並依分攤後金額計算是否符合投資抵減優惠之資格？
(三) 須具有「國際供應鏈關鍵地位」：「國際供應鏈」與「關鍵地位」之定義須待主管機關於授權子法中明訂。
1. 「國際」供應鏈：所謂國際供應鏈，是否僅需該產業供應鏈中之任一環節有他國籍之參與者即符合？另，產業參與者之國籍認定係依該參與者之設立地認定或依該參與者之最終母公司設立地認定？
2. 「關鍵地位」：本所認為，倘以「維持／創造產業競爭優勢」切入思考，或可借用競爭法之概念，以「不可替代性（質性特徵）」與「市占率多寡（量化特徵）」作為衡量特定公司是否具有供應鏈關鍵地位之參考標準。然而實務上應如何針對不同產業特性具體化相關判准，仍有賴主管機關以授權子法明訂。
例：半導體產業依其產業特性即可大分為積體電路設計、晶圓製造以及半導體封裝測試三大部分，且此分類之界線於先進積體電路市場亦愈發不明確（例：晶圓級封裝技術使晶圓製造業者得以跨入封裝測試市場；系統單晶片概念使封裝測試與積體電路設計產生競合關係）。此種產業特性，將導致實務上難以操作上揭參考標準決定特定公司是否居於關鍵地位（例：應如何決定市場範圍）。
(四) 於同一課稅年度內之「研究發展費用」與「研究發展費用占營業收入淨額之比率」須達到一定規模：具體規模仍待主管機關於授權子法中明訂。惟依修正理由之說明，可知「研究發展費用」與「營業收入淨額」均為公司個體綜合損益表之金額。
1. 本款要求之「研究發展費用」數額，依法條文義並未限制僅能計入「屬前瞻創新」之研究發展費用，本所認為似得將公司該課稅年度所有帳載「研究發展費用」均納入計算。
2. 修正後產創條例第10條之2第一項所稱「前瞻創新研究發展支出金額」，本所認為依文義可能包含
(1) 符合相關會計準則而予以資本化之發展支出(Development expenditure)，及；
(2) 費用化之研究發展費用。
惟目前尚無法確定僅費用化之部分得以作為計算投資抵減之基礎，或資本化與費用化之金額得併計為計算投資抵減之基礎。
(五) 投資之項目需符合定義：公司欲申請本次產創條例修正案投資抵減之研究發展支出，限於投資於「前瞻創新」之研究發展支出。而「前瞻創新」之定義須待主管機關於授權子法中明訂。另，公司欲申請本次產創條例修正案投資抵減之資本支出，限於「購置供自行使用」於「先進製程」之機器設備，且購置金額須達「一定規模」。而「先進製程」與「一定規模」之定義亦須待主管機關於授權子法中明訂。
(六) 於申請抵減課稅年度之「有效稅率」須達法定下限：2023年為12%、2024年後為15%（惟2024年得經中央主管機關會同財政部審酌後調整為12%）
本款之有效稅率=100% X（應納稅額-境外所得已繳納之可扣抵稅額-大陸地區來源所得已繳納之可扣抵稅額-適用之投資抵減稅額總額）／全年所得額
二、法定要件中之消極要件
(一) 禁止申請同類投資抵減優惠：為避免本次產創條例給予過度之租稅優惠，故規定公司一旦申請適用本條之投資抵減優惠，即禁止申請其他同類投資抵減優惠。
以「前瞻創新研究發展支出」之投資抵減為例，倘公司有「屬」前瞻創新之研究發展支出與「非屬」前瞻創新之研究發展支出，一旦公司就「屬前瞻創新之研究發展支出」申請適用定率投資抵減優惠，即不得就「非屬」前瞻創新之研究發展支出申請適用其他同屬「研究發展支出」類型之租稅優惠。
例：假設A公司X1課稅年度之總研究發展支出為新台幣（下同）100億元，其中屬於前瞻創新之研究發展支出為15億元，符合產創條例第10條之研究發展支出共計80億元，符合產創條例第10條之1之研究發展支出為5億元。一旦A公司申請適用修正後產創條例第10條之2（「前瞻創新之研究發展支出定率投資抵減」），則A公司其餘85億元之研究發展支出，即不得依產創條例第10條或第10條之1申請適用對應之投資抵減優惠。
(二) 抵減總額不得超過法定上限
1. 「前瞻創新研究發展支出」之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應納營利事業所得稅額之30%
例：假設B公司符合產創條例第10條之2之適用要件，本年度扣除研究發展費用前之所得淨額為100元，「前瞻創新研究發展支出（假設無資本化數額）」為x元，營所稅率為20%，有效稅率限制為12%，則以代數公式表達此項限制如下：
x*25%≤[(100-x)*20%-x*25%]*30%
2. 購置用於「先進製程」之機器設備支出之定率投資抵減，不得超過公司特定課稅年度應納營利事業所得稅額之30%
3. 公司依各該法規申請適用之投資抵減總額，不得超過其於特定課稅年度應納營利事業所得稅額之50%：依修正理由可知，公司於申請本次產創條例修正案之投資抵減優惠之課稅年度，如有以往年度申請適用之投資抵減賸餘，仍可於該課稅年度合併使用。
(三) 三年內無違反環境保護、勞工或食品安全衛生相關法律且情節重大情事：為免使有重大違反環保、勞工或食安法令之公司得以享受鉅額之租稅優惠，故參考同法所設計之其他租稅優惠措施納入此消極要件。
除上述適用稅捐優惠的要件外，另需注意產創條例修正案關鍵法條定義之變更頻率，與節能減碳之要求。考量科技進步快速、重點產業更迭不斷，立法院於產創條例修正案三讀時，一併通過附帶決議，要求經濟部應每年邀集學者專家及業者就「居國際供應鏈關鍵地位」、「前瞻創新研發」、「先進製程設備」等名詞定義及關鍵產業進行檢討，以利相關租稅優惠能夠符合產業實際需求。且為符合國際節能減碳、氣候與永續與綠色轉型之浪潮，立法院亦於附帶決議中要求經濟部制定相關政策，評估積極協助申請產業創新條例第10條之2租稅優惠時，同時提出節能減碳具體措施，例如降低及優化製程設備能源使用、強化製程氣體回收及優化製程參數降低溫室氣體排放，以及每年度碳盤查各範疇之資訊公開。
本次產業創新條例修正案，亦即第10條之2條文三讀通過，對處於前瞻技術與尖端科技產業中之產業參與者而言不啻為一利多消息。欲申請本次產創條例修正案租稅優惠之公司，應儘早盤點公司之研究發展支出與先進製程之性質與規模，以評估公司是否有機會申請本次產創條例修正案之鉅額租稅優惠。本所稅務專業小組由具有國內外律師、會計師執照之稅務專家所組成，熟悉國內與國際稅法之最新變動趨勢，且與律盟聯合會計師事務所密切合作，對於稅捐稽徵實務有深入之瞭解。如您就本次產創條例修正案有任何疑問，請不吝隨時與本所稅務專業小組聯繫。