Newsletter
日本專利授權登記實務變更
日本相關專利法規甫修正，將自2009年4月1日起生效，導致專利授權登記實務之下述變動：(1)針對審查中之發明或專利申請案，可暫時進行專利授權登記；(2)針對發明或新型專利之非專屬授權登記內容，將只針對特定利害關係人揭露。
依修正前規定，於專利核准前，發明或新型專利案之授權，並無登記機制；惟有在發明或新型核准登記後，始能向日本專利局申請授權登記。為了讓學術單位或企業(特別是大學、中小企業或是創投公司等)可以利用這些仍在審查中之發明或新型，新法針對審查中的發明或新型專利申請案，亦允許辦理暫時的授權(provisional license)登記。暫時的授權登記，日後在專利或新型核准登記後，可轉為正式的授權登記。暫時授權登記的效力包括：1)即便所涉申請案經讓予他人，登記之暫時被授權人可以之對抗受讓人；2)即便申請人破產，經登記之暫時授權合約仍有效存在。
依舊法，關於獲准發明或新型專利之非專屬授權登記內容(例如：專利號、授權人名稱、被授權人名稱、非專屬權利之範圍、授權費用及權利金支付狀態等)，任何人可申請閱覽知悉。依修正後規定，基於授權登記之內容需保密的目的，就應予保密之非專屬授權項目(例如：被授權人名稱、非專屬權利之範圍等)，只能由特定之利害關係人申請閱覽及知悉。特定之利害關係人包括：1)授權人及被授權人；2)專利權或專屬權之受讓人及設質人、擁有專利權或專屬權之債權人；3)上述各方之破產管理人。