日本早期專利公開制度

09/01/2000

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日本早期專利公開制度設有假保護。即專利申請案自申請日起十八個月後公開，在公開之後，若他人未經授權而使用該申請案所請發明，則該案之申請人得發函通知侵權人該申請案已公開之事實，並敘明其後續可能採取之侵權救濟措施(例如：收取權利金等)。惟，前述申請人應在所涉專利申請案確已公開後始可採行上述程序。

依2000年1月1日生效之日本特許法修正內容，專利申請案之公開日可以較申請後18個月更早，此種制度具有下列優點：

由於公開提早，專利權人方能愈早開始行使假保護；

由於公開提早，經公開之申請案方愈有可能構成嗣後提出申請案件之先前技藝；及

若使用日文說明書之國際申請案愈早公開，則該案之申請人可愈早享有暫時保護。