年頭にあたり謹んでご祝詞を申しあげます。  

昨年中はひとかたならぬご厚情にあずかり、まことにありがとうございました。本年も所員一同、心を一にして努力してまいりたいと存じますので、なにとぞ倍旧のお引き立てを賜わりますようお願い申しあげます。

さて、当所からは、昨年12月19日付けで｢台湾特許審査のフロー図｣をお送りしたばかりですが、台湾特許庁が昨年12月26日付けで、外国出願人からの出願に対する審査意見通知書の対応期限の改正を発表いたしましたので、早速お知らせいたします。当該改正は、初審査意見通知書および再審査意見通知書への応答期間をこれまでの60日から90日(更に一回のみ90日の延長が可能)に改正するもので、2008年1月1日から実施されます。詳しくは添付の最新版｢台湾特許審査のフロー図｣をご覧ください。クライアント各位におかれましては、前記の改正にご留意くださいますようお願い申しあげます。ご質問、お気づきの点、ご要望などございましたら、お気軽に林（chlin@leeandli.com）までお問い合わせください。