近年、台湾における意匠権の重要性はますます高まり、国外からの意匠登録出願も年々増加しております。このような現状に鑑み、このたび当所は、台湾への意匠登録出願の際の参考としていただくため、現行の意匠登録制度、特に類似意匠制度について添付ファイルにまとめ、クライアント各位に送付させていただくことに致しました。ご出願の際のお役に立てば幸甚に存じます。

    なお、台湾における意匠登録制度では、現在、類似意匠制度から関連意匠制度への変更、部分意匠制度の導入、組物出願の拡大、及びICONやGUIの保護などの方向で法改正が検討されておりますが、成立時期やその内容については、いまだ不明確な状況にあります。

    また、台湾特許庁は、台湾への意匠登録出願にあたり、図面説明書を作成するための参考として、｢意匠登録出願の説明書における図面説明及び図面の作成に関するガイドライン｣を作成し、2007年11月20日に公告しました。その日本語訳などの詳細については、当所が発行した2007年11月20日付の「Lee And Li Alert Sheet」をご参照ください。再送付をご希望の場合は、どうぞ当所までご連絡ください。

  ご質問、お気づきの点、ご要望などございましたら、お気軽に林（chlin@leeandli.com）までお問い合わせください。